惠然微电子推出了国内首款14/22nm电子束关键尺寸量测设备（CD-SEM），这是仅次于光刻机的关键制造工具，国产化率长期较低。该设备在刚刚结束的第十四届半导体设备材料及核心部件展上首次亮相，显著填补了此领域的短板。
CD-SEM为何难以生产？它涉及光刻、刻蚀、沉积等所有核心工艺，影响晶圆良率和制程的速度。该设备长期被少数国外厂商占据市场。惠然微电子的eMILO-FW300不仅支持14nm前沿工艺的研发，还兼容22nm大规模生产，实现了“研发+量产”的功能齐全的高端量测设备。
此外，该公司还推出了光掩模版CD-SEM（Mask CD-SEM eMILO-FR7），满足22nm及以上节点的计量需求，弥补了国内高端掩模量测设备的空白。结合AI-电子束量测技术平台RMS，惠然在算法和数据处理方面也取得了自主突破。
据无锡滨湖产业集团介绍，惠然微电子是国内唯一正向研发CD-SEM并实现出货的公司，自2024年入驻滨湖后，营业收入大幅增长。展出产品均达到国内领先水平，部分为国内首创。接下来，该公司计划实现光掩模版CD-SEM的产品化。
在9月1日的产业对接会上，惠然微电子与国内半导体巨头华润微电子签署了战略合作协议，双方将共同推动半导体设备的国产化进程，构建技术交流与人才培养机制，深化产业链整合。这些举措将进一步推动“小光刻机”的国产化发展。
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